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单面抛光机-下载凯发k8
下抛光盘尺寸:φ1300mm
机器重量:约8,000 kg
本机器主要适用于stn-lcd、cstn-lcd 等玻璃基片及硬脆材料的高精度、高效率的单面抛光。
the machine is uniquely designed for single side polishing a wide variety of surfaces where flatness and ultra precision surface finish is critical. these materials include stn-lcd, cstn-lcd glass substrates, and other hard and fragile materials.
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产品描述
参数

- 高刚性主轴结构,可通过联轴器吸收部分振动,抛光时不会发生有害的震动,有利于提高产品的抛光质量。
- 上抛光装置采用电机驱动曲柄滑块往复运动机构,实现上盘整体稳定摇摆,摇摆速度0~100mm/s,摇摆幅度最大可达700mm。
- 采用气缸直驱控制上抛光盘的升降与翻转,升降快速且平稳;翻转的角度可达75°。
- 采用吸附衬垫的吸附方式来固定工件。
- 采用plc 和触摸屏控制,在触摸屏里可预设不同压力条件下的工艺参数。
- 变频调速驱动装置,实现软启动、软停止,可根据用户的工艺需求调节机器转速,达到理想的研磨速度。
项目 | 规格 |
下抛光盘尺寸 | φ1300mm |
下抛光盘旋转速度 | 0~50rpm |
上抛光盘尺寸 | φ1000mm |
上抛光盘摆动幅度 | ≤700mm |
上盘加工件最大尺寸 | 730mm×920mm(下贴式) |
抛光液桶容积 | 45l |
搅拌电机 | 400w |
抛光液泵 | 375w |
下抛光盘电机 | 11kw 1450rpm 3相380v |
摇摆电机 | 1.5kw 1450rpm 3相380v |
电源电压 | 3相 380v 50hz |
抛光时间设定范围 | 0-9999 s |
气源压力 | 0.5-0.6mpa |
工作压力 | 0.45-0.6mpa |
纯净水压力 | 0.5-0.6mpa |
装机容量 | 约15kva |
机器外形尺寸(l×w×h) | 约2720×2250×2370mm |
机器重量 | 约8,000 kg |
设备每平方米重量 | 约2490kg/m² |
设备要求地面承重 | 2800 kg/m² |
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